平面光栅是扁平衍射光栅，广泛应用于工业领域，如单色仪和多色仪、激光技术和分光、航空航天工程领域及反射标准。平面机械刻划光栅专为一阶衍射而设计，通过自动校直在某些波长上获得非常大衍射效率。通过刻线间距、槽型深度和闪耀角来定义能量分布。 蔡司平面光栅对 150 nm 和 50 µm 之间的光谱范围进行了优化。采用机械刻划或全息记录的方式制作光栅，所采用方法取决于是否能获得优异的结果。可能的光栅槽型有刻痕或闪耀、正弦和层状或二进制。
蔡司平面光栅生产简介：蔡司的平面光栅属衍射光栅，使用两种生产方法：1)全息方法；2)刻划机刻复制。为符合各行业需要，光栅在100nm-50µm有很好的优化性能，按光栅沟槽轮廓分类，我们把供：1)中阶梯；2)正弦；3)浅槽式。欢迎索取相关样本。
蔡司平面光栅简介 (Plane Grating)
平面光栅应用
满足各种应用，优化光栅适用于100nm-50µm，光栅是机械刻划或全息生产，光栅轮廓可以下显示：
平面光栅的机械刻划，使用自动准直产生一阶衍射谱，而能量即由线距、轮廓深度、闪耀角度分配。使用自动准直产生的光栅对某波长(闪耀波长)给出*大效率，Czerny-Turner设计被经常应用。
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